解决方案|ICP法测定氮化硅中Ca、Cu、Fe、Mn、Cr、Ni、Al、Na、K元素含量
发布时间：2025-12-01
在半导体制造与高性能陶瓷领域，氮化硅（Si₃N₄）扮演着核心角色。其卓越的强度、抗热震性及优异的绝缘性能，使其成为芯片基板、高温轴承和精密元件的理想选择。然而，微量的金属杂质如同潜伏的破坏者：碱金属（Na、K）易在电场下迁移，引发器件漏电流与失效；过渡金属（Fe、Cr、Ni、Cu、Mn）显著降低材料介电性能和热导率，甚至成为电荷陷阱；Al可能干扰烧结过程；Ca则影响高温稳定性。对这9种元素（Ca、Cu、Fe、Mn、Cr、Ni、Al、Na、K）的精确定量，是保障材料批次一致性、器件可靠性及最终产品性能的生命线。
| 应用领域: | 发布时间:2025-12-01 |
| 检测样品: | 检测项目:石油化工 |
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